两个平面必须是理想平行的。特征控制框在两者之间创建一个中间面。该中间面必须理想地位于定位基准的平面公差区域内。

PC-DMIS 检查中平面的“角点”，确认其位于偏离定位基准的“角点”的最大偏差值两倍的平面公差带内。

这些“隅角点”是通过将两个平面中每个平面实际测头采点投影到中间面上计算出来的。

1. • 投影点沿 X 方向（基准参考框）离中间面质心的最大距离决定了中间面的“长度”。

   • 投影点点沿 Y 方向（基准参考框）离中间面质心的最大距离决定了中间面的“宽度”。

“长度”和“宽度”计算定义出相对于中间面质点的隅角点。如果无实际测头采点进行投影（如两个面本身为构造面），仅查看中间面质点是否位于公差带内。

基准信息

一个基准-这是一个与构造中间面理想共面的面。基准面的矢量定义了测量方向。

两个基准-第一个基准：这是一个与构造中间面理论共面的面。第二基准：要么是一个与构建中间面理想共面的面，要么是轴理想位于构建中间面的一个轴类型特征。如果是面的话，第二基准面的矢量决定了测量方向。如果为轴类型特征，用中间面的矢量方向替代轴基准的矢量方向作为测量的方向。

两线必须理想平行。两线必须理想平行。该中线面必须理想地位于定位基准的公差区域内。

PC-DMIS 检查中线的“终止点”，以确认其位于偏离定位基准的“终止点”的最大偏差值两倍的平面公差带内。+

这些“端点”是通过将两线实际测头采点投射到中线上计算出来的。投射端点离中线的中心最远处称为“端点”。如果无实际测头采点进行投射（如两线本身为构建线），那么中线的中心经检查位于公差区域即可。

基准信息

一个基准-这个基准或者是一个面，该面理想地与包括中线的两条线的平面垂直；或者是一轴类特征，该轴位于一个与包括中线的两条线平面垂直的平面内。如果是面的话，基准面的矢量决定了测量方向。如果是一个轴类型特征，测量方向与当前工作平面轴基准垂直。

两个基准-第一个基准：这是一个与中线理想垂直的面。第二个基准：或者是一个平面特征，或者和单一主要基准轴同样作用的轴特征。如果是面的话，面的矢量决定了测量方向。如果是一个轴类型特征，测量方向与当前工作平面轴基准垂直。

基准信息

一个基准-这个基准或者是一个理想地包括中线的平面，或者是轴理想地与中线平行的轴类型特征。

两个基准-一个主要基准：这是一个与中线理想垂直的面。第二基准：或者是一个平面特征，或者是与单一主要基准轴同样作用的轴特征。测量方向的确定与情况2一样。

基准信息

一个基准：选择一个平面或者一个轴类型特征作为基准。如果是一个平面，应该与连接两点包括中点的线理想垂直。基准面的矢量决定了测量方向。如果是一个轴特征，应该位于与连接两点包括中点的线垂直的平面内。测量方向与当前工作平面轴基准垂直。

基准信息

单基准：可指定包含中点的平面或轴型特征。PC-DMIS 确定测量方向的方式与上述 4 相同。

基准信息

一个基准：选择一个平面或者一个轴类型特征作为基准。这种情况下的分析与常规对称尺寸分析一致。

PC-DMIS 将采用这种方式由两组点计算出中点：中点 n 由第一组的点 n 以及第二组的点 n 计算得出，以此类推。最后得到的中点应在定位基准的平面公差带内。该分析与上述 7 相同，除了是分两组取点这点不同。

基准信息

一个基准：选择一个平面或者一个轴类型特征作为主要基准。分析与情况7一致。

与特征轴垂直的面1mm内的测头采点属于同一“圆组”。PC-DMIS 解决采点为与特征轴垂直面中的 2D 圆。测评所有“圆组”中的质点，查看对称性，确认是否都位于基准周围的公差区内。公差带可能是圆柱形的也可能平面的，取决于所用的基准。报告公差值是，“圆组”质点离定位基准最大偏差值的两倍。

基准信息

一个基准-可选择一个理想包括考虑特征轴的面，或者一个与考虑特征轴理想一致的轴类型特征。如果是面的话，公差带是平面的并且面的矢量决定了测量方向。如果是轴类型特征，公差带是圆柱形的。

两个基准-主要基准：这是一个与考虑特征理论垂直的面。次要基准-可选择一个理论包括选定特征轴的面，或者一个与考虑特征轴理论一致的轴类型特征。如果是面的话，公差带是平面的并且基准面的矢量决定了测量方向。如果是轴类型特征，公差带是圆柱形的。

端点必须都位于定位基准的公差带内。公差带可能是圆柱形的也可能平面的，取决于所用的基准。报告公差值是，端点离定位基准最大偏差值的两倍。

基准信息

与上述情况9一致。