主基准平面数学类型

构造的主基准平面的数学类型区域提供三个不同的数学类型。这些数学类型支持 ASME 和 ISO 基准平面标准。

数学类型首个下拉式列表中的三个数学类型为:

定义

这些术语对应标准中的以下定义:

PC-DMIS ASME Y14.5 ISO 5459

约束的 L1

替代数学类型

替代数学类型

约束的 L2(默认)

替代数学类型

替代数学类型

约束的最小最大值

替代数学类型

默认数学类型

在选择一个数学类型之前,需要理解空隙过滤(外部包络)、基准和外部材料约束(约束拟合)的概念。以下涉及这些概念:

空隙过滤

空隙过滤也称为外部包络。

实际上,平面特征的表面并不平坦。表面具有凸面和凹面区域(峰值和谷值)。凹面区域保证不会接触到完全平坦的平面板。这些称为“空隙”。软件可通过插值过滤出这些空隙。因为空隙不会影响零件如何与理想的平面板相互作用,您可能希望过滤出空隙:

已过滤空隙表面的说明。带点灰线为实际表面特征。黑色实线为已过滤空隙的表面。实际特征表面和已过滤空隙表面之间的间隔为空隙。

基准

一般情况下,理想的几何形状均适于非理想表面,方式是将理想形状和非理想表面之间的距离最小化。实际上,在两个表面之间具有无穷数量的距离。基准为数学概念,即把这些距离转换为单一距离,同时满足特定的数学属性。构造的 PC-DMIS 主基准平面支持三个基准:

拟合过程根据选择的基准将距离最小化。

外部材料约束

外部材料约束还称为约束拟合。在将理想几何形状拟合为非理想表面时,可能会增加对拟合过程的约束。外部材料约束表示在基准最小化时,拟合过程受到约束。约束即理想表面必须位于实际表面的外部。这类似于表面板。表面板始终在零件外部。例如,约束的 L∞ 面将位于零件外部的所有面以外的最大偏差最小化。

全部放置在一起

PC-DMIS 主基准平面同时使用空隙过滤、基准和外部材料约束的概念。主基准平面首先从提供的实际表面的测量值中过滤出空隙。然后找到一个面,这个面可以把所选的至已过滤空隙的面、对象至外部材料约束的距离之基准最小化。

示例

主基准平面暴露的三个数学类型在不同情况下具有不同的行为。这些示例举例说明了这些情况。它们还证明了 L2 算法如何给出实体基准(例如表面板)的可重复近似值。

正弦曲线表面轮廓示例

在各插图中,带点灰线为实际表面特征。黑色实线为已过滤空隙的表面(外部包络)。

L∞

红线是以外部包络为目标的约束 L∞ 平面(PC-DMIS 中的约束最小最大值类型)。观察该平面如何随着表面板的操作而倾斜。

 

L1

蓝线是以外部包络为目标的约束 L1 平面(PC-DMIS 中的约束 L1 数学类型)。

 

L2

绿线是以外部包络为目标的约束 L2 平面(PC-DMIS 中的约束 L2 数学类型)。

V 型表面轮廓示例

在各插图中,黑色实线为已过滤空隙的表面(外部包络)。

L∞

红线是以外部包络为目标的约束 L∞ 平面(PC-DMIS 中的约束最小最大值类型)。观察该平面如何使摇动条件相等。

L1

蓝线是以外部包络为目标的约束 L1 平面(PC-DMIS 中的约束 L1 数学类型)。

 

L2

绿线是以外部包络为目标的约束 L2 平面(PC-DMIS 中的约束 L2 数学类型)。观察该平面如何使摇动条件相等。

摇摆表面轮廓示例

在各插图中,带点灰线为实际表面特征。黑色实线为已过滤空隙的表面(外部包络)。

L∞

红线是以外部包络为目标的约束 L∞ 平面(PC-DMIS 中的约束最小最大值类型)。观察该平面如何随着表面板的操作而倾斜。

 

L1

蓝线是以外部包络为目标的约束 L1 平面(PC-DMIS 中的约束 L1 数学类型)。

 

L2

绿线是以外部包络为目标的约束 L2 平面(PC-DMIS 中的约束 L2 数学类型)。

迁移

从早期的 PC-DMIS 版本到 PC-DMIS 2019 R1:

高点面特征变为带有约束 L1 数学类型的主基准平面特征。

正切平面成为主基准平面特征,并保留数学类型。

通过 PC-DMIS 2018 R2,从 PC-DMIS 2019 R1 到 PC-DMIS 2017 R1:

主基准平面特征变为正切平面特征。

从 PC-DMIS 2019 R1 到 PC-DMIS 2016.0 版本(或更早):

若 PC-DMIS 版本支持高点面,则正切平面特征变为高点面特征。